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Plasma 2000 全谱ICP光谱仪

仪器名称:Plasma 2000 全谱ICP

仪器型号:Plasma 2000

制  造  商:钢研纳克

原  产  地:中国北京

联系电话:400 6218 010

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产品详情

仪器类型全谱型ICP观测方式单向观测矩管放置垂直放置
震荡频率27.12MHz频率稳定性优于0.01%功率稳定性优于0.1%
光源类型固态光源光栅类型中阶梯光栅检测器类型背照式CCD
仪器尺寸121cm*74cm*80cm仪器重量200kg

      钢研纳克ICP光谱仪,35年电感耦合等离子体光谱仪方法开发经验,数十项ICP检测标准的起草单位,ICP光谱仪产品标准GB/T 36244-2018起草单位,重大科学仪器专项《ICP痕量分析仪器的研制》牵头单位。央企品牌,上市公司,品质之选!欢迎来电洽谈。联系电话:400-6218-010

仪器介绍

      Plasma2000型电感耦合等离子体发射光谱仪是钢研纳克“国家重大科学仪器设备开发专项”成果。采用中阶梯光栅光学结构和科研级CCD检测器实现全谱采集。仪器稳定性好、检测限低、快速分析、运行成本低。

      Plasma2000型电感耦合等离子体发射光谱仪可用于地质、冶金、稀土及磁材料、环境、医药卫生、生物、海洋、石油、化工新型材料、农业、食品商检、水质等各领域及学科的样品分析。可以快速、准确地检测从微量到常量约70种元素。

 

1、 中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,径向观测,具有稳健的检测能力。

2、 高效稳定的固态射频发生器,体积小巧,匹配速度快,确保仪器的高精度运行及优异的长期稳定性。

3、 高速面阵CCD采集技术,单次曝光获取全部谱线信息,真正实现“全谱直读”。

4、 功能强大的软件系统,简化分析方法的开发过程,为用户量身打造简洁、舒适的操作体验。

技术参数

1. 光学系统:中阶梯二维分光光学系统,焦距400mm

2. 谱线范围:165nm~950nm,光学分辨率:0.007nm(200nm处)

3. 光栅规格:中阶梯光栅,52.67刻线/毫米,尺寸:100mm x 50mm

4. 晶体管固态射频发生器,小巧高效

5. 27.12MHz频率提高信噪比,改善了检出限

6. 自动匹配调节

7. 全组装式炬管,降低了维护成本

8. 计算机控制可变速12滚轴四通道蠕动泵,具有快速清洗功能

9. 实验数据稳定性良好:重复性 RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10);稳定性:RSD ≤1.0%(大于3小时)


仪器特点

稳健高效的全固态光源

      全固态射频发生器,体积小、效率高,全自动负载匹配,速度快、精度高,能适应各种复杂基体样品及挥发性有机溶剂的测试,具有优异的长期稳定性。

      垂直炬管的设计,具有更好的样品耐受性,减少了清洁需求,降低了备用炬管的消耗。

      简洁的炬管安装定位设计,快速定位,精确的位置重现。 

      实时监控仪器运行参数,高性能CAN工业现场总线,保障通讯高效可靠。

 

精密的光学系统

      中阶梯光栅与棱镜交叉色散结构,使用超纯SiO2棱镜,高光路传输效率,保证了深紫外区的元素测量。

      优化的光学设计,采用非球面光学元件,改善成像质量,提高光谱采集效率。

      光室多点充气技术,缩短光室充气时间,提高紫外光谱灵敏度及稳定性,开机即可测量。

      光室气路独立,可充氮气或氩气。

      包围式立体控温系统,保障光学系统长期稳定无漂移。

 

进样系统

      仪器配备系列经过优化的进样系统,可用于有机溶剂、高盐/复杂基体样品、含氢氟酸等样品的测试。

      使用一体式炬管,易于维护,转换快速,使用成本低。

      使用质量流量控制器控制冷却气、辅助气和载气的流量,流量连续可调,保障测试性能长期稳定。

      4通道12滚轮蠕动泵,泵速连续可调,确保样品导入稳定性。

   

检测器

      大面积背照式CCD检测器, 全谱段响应,高紫外量子化效率,抗饱和溢出

      具有极宽的动态范围和极快的信号处理速度

      一次曝光,完成全谱光谱信号的采集读取,获得更为快速、准确的分析结果

      同类产品中最大靶面尺寸,百万级像素,单像素面积24μm X 24μm

      三级半导体制冷,制冷温度低于-35℃,具有更低的噪声和更好的稳定性

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